Рентабельное альтернативное волокно кремнезема с трудным плакированием полимера от освещения к фотодинамической терапии
Технические данные
Длина волны/спектральный ряд HUV и HWF: 350 – 2200 nm
Численная апертура (NA) 0,02 ± 0,37 | 0,02 ± 0,48 | 0,02 ± 0,52 | 0,02 ± 0,57
Рабочая температура -40 до °C +150
Диаметр ядра доступный от 100 к μm 2000
Содержание HUV OH: Максимум (> 700 ppm)
HWF: низкий уровень (< 1="" ppm="">
Стандартное prooftest kpsi 100
Минимальный диаметр плакирования × радиуса загиба 50 (недолгосрочный механический стресс)
диаметр ядра × 150 (во время пользы с высокой силой лазера)
Значения амортизации по отношению к длине волны: см. P. 19